Tiongkok Merilis Standar Generator Ozon Tingkat Semikonduktor Pertama, Meningkatkan Industri Peralatan Semikonduktor Dalam Negeri

Industri semikonduktor Tiongkok telah mencapai tonggak penting dengan peluncuran resmi dan penerapan standar grup pertama di negara tersebut untuk generator ozon tingkat semikonduktor. Dikeluarkan pada tanggal 9 Desember 2025, "Persyaratan Teknis untuk Generator Ozon Tingkat Semikonduktor" (T/CIET 1946-2025) dipimpin oleh Qingdao Guolin Semiconductor Technology Co., Ltd. bekerja sama dengan 17 perusahaan terkemuka di seluruh rantai pasokan semikonduktor.

Standar penting ini mengisi kesenjangan kritis dalam spesifikasi teknis dalam negeri untuk peralatan ozon yang digunakan dalam manufaktur semikonduktor dan layar panel. Generator ozon memainkan peran yang sangat diperlukan dalam proses semikonduktor utama termasuk pengendapan film tipis, pembersihan wafer, dan penghilangan photoresist, dimana kinerja teknis dan keandalannya berdampak langsung pada hasil fabrikasi chip.

Teknologi Mesin Ozon telah menjadi hal penting dalam pabrik semikonduktor modern, di mana persyaratan kebersihan permukaan telah mencapai tingkat presisi atom. Pengujian laboratorium baru-baru ini menunjukkan bahwa sistem pembersihan ozon UV yang canggih dapat mengurangi kontaminan organik pada wafer silikon dari 50nm menjadi hanya 0,5nm, sehingga mencapai peningkatan efisiensi pembersihan 100 kali lipat dibandingkan metode tradisional. Tingkat presisi ini sangat penting seiring kemajuan industri menuju node proses 5nm dan 3nm.

Generator Ozon Industri yang dirancang untuk aplikasi semikonduktor menggunakan metode lucutan korona atau ultraviolet untuk menghasilkan konsentrasi ozon yang tepat dan disesuaikan dengan kebutuhan manufaktur tertentu. Tidak seperti proses pembersihan basah konvensional yang mengandalkan asam sulfat dan hidrogen peroksida—yang dapat meninggalkan residu kimia dan menghasilkan banyak air limbah—pembersihan berbasis ozon menawarkan alternatif kering dan bebas residu yang terurai secara alami menjadi oksigen setelah digunakan.

Standar baru ini dikembangkan melalui kolaborasi ekstensif yang melibatkan para pemain industri utama termasuk Beijing North Huachuang Microelectronics Equipment Co., HuaHai Qingke Co., Tuojing Semiconductor Equipment, dan Shengmei Semiconductor Equipment, antara lain. Partisipasi industri yang luas ini memastikan ketelitian ilmiah, penerapan, dan keterwakilan standar ini di seluruh ekosistem semikonduktor.

Aplikasi Mesin Disinfeksi Ozon lebih dari sekadar pembersihan wafer hingga mencakup proses oksidasi tingkat lanjut untuk menghilangkan kontaminan organik dari peralatan dan fasilitas manufaktur semikonduktor. Teknologi ini secara efektif menghilangkan residu photoresist, jejak pelarut organik, dan kontaminan molekuler di udara yang dapat mengganggu hasil chip.

Upaya standardisasi, yang dimulai dengan persetujuan proyek pada bulan Maret 2025 dan diakhiri dengan peluncuran final pada bulan Desember 2025, menetapkan spesifikasi teknis yang komprehensif dan tolok ukur keandalan untuk peralatan pembangkit ozon. Hal ini memberikan produsen semikonduktor kriteria yang jelas dan terukur untuk pemilihan peralatan dan validasi proses.

Analis industri memproyeksikan bahwa pasar generator ozon global akan mencapai $2,36 miliar pada tahun 2030, tumbuh pada CAGR sebesar 8,0%, sebagian didorong oleh peningkatan investasi pada infrastruktur manufaktur semikonduktor dan kebutuhan akan solusi pembersihan tingkat lanjut. Standar baru Tiongkok ini memposisikan produsen dalam negeri untuk bersaing secara lebih efektif di pasar yang berkembang ini sambil mendukung inisiatif nasional yang lebih luas untuk memperkuat kemampuan peralatan semikonduktor dalam negeri.

Ke depan, penerapan standar ini diharapkan dapat mempercepat penerapan generator ozon yang diproduksi dalam negeri di pabrik semikonduktor Tiongkok, mengurangi ketergantungan pada peralatan impor sekaligus memastikan kualitas dan kinerja yang konsisten. Ketika industri semikonduktor terus berkembang pesat, teknologi ozon terstandarisasi akan memainkan peran yang semakin penting dalam memungkinkan lingkungan manufaktur yang tepat dan bebas kontaminasi yang diperlukan untuk produksi chip generasi berikutnya.